注明:半导体、FPD造作流程越发要求精密化、高机能化,,,,,半导体硅电路板的洗濯在各类加工工序中变得极度沉要。。。。。。。。氢氟酸拥有蚀刻、除去硅氧化膜的特质,,,,,因而在半导体硅电路板的洗濯流程中也是不成或缺的精密加工技术。。。。。。。。由于此刻的多段洗濯工序中必要用到稀氢氟酸进行最终洗濯,,,,,半导体的湿蚀刻工序对氢氟酸也要求很高的干净度。。。。。。。。洗濯对氢氟酸干净度要求极高的设备构件也必要用到超高纯度的氢氟酸。。。。。。。。
另表,,,,,半导体、FPD造作工序,,,,,超高纯度药剂不仅能去除氧化膜,,,,,并且能在抑造粒子附着、晶片表表的粗糙度等,,,,,达到各类对洗濯性、职能性的要求。。。。。。。。为此,,,,,我公司一向致力于对各类超高纯度电子化学品进行研发及销售。。。。。。。。
包装:加仑瓶,,,,,20公斤、25公斤聚乙烯桶,,,,,200公斤压力容器,,,,,
1000公斤IBC桶,,,,,20吨TANK罐。。。。。。。。
联系人:朱义坤:130-6948-8833
薛 栋:188-3907-6907
辛凯明:199-3918-1150
注明:我司所出产的电子级硝酸主含量70±0.5%,,,,,氯化物≤20ppb,,,,,磷酸盐≤50ppb,,,,,硫酸盐≤50ppb,,,,,铝、钠、钾离子≤0.05ppb,,,,,其他金属杂质离子≤0.03ppb,,,,,颗粒(≥0.1μm)≤25个/ml。。。。。。。。
包装: 200公斤压力容器,1000公斤IBC桶,,,,,20吨TANK罐
联系人:朱义坤:130-6948-8833
孙 沛:181-0391-9965 孙 明:185-3018-7110注明:我司所出产的电子级氨水主含量(28.5-29.5)%,,,,,单个杂质金属离子含量≤10ppt,,,,,硫酸根≤20ppb,,,,,磷酸根≤10ppb,,,,,颗粒(≥0.1μm)≤25个/ml。。。。。。。。
产品优势: 由于在超净高纯电子级氨水的精馏纯化过程中,,,,,气体中同化的雾滴会传染最终产品,,,,,导致产品无法达到半导体企业所必要的10ppt 级别水平。。。。。。。。因而我司研造了超纯的PTFE丝网除雾器代替传统材质的丝网除雾器,,,,,解决了液氨气化过程中雾滴不易去除的难题,,,,,满足氨气纯化需要,,,,,保障了半导体企业所需的纯度要求。。。。。。。。包装: 200公斤压力容器,1000公斤IBC桶,,,,,20吨TANK罐
联系人:朱义坤:130-6948-8833
孙 明:185-3018-7110注明:电子级氟化铵是一种用于半导体造作工艺中的沉要原资料。。。。。。。。它可被用作高纯度氟离子源和可控的淀积源,,,,,援手调节氟离子浓度和节造膜厚度,,,,,因而可用于出产半导体器件中的绝缘层资料、金属反映物、填充资料和电极所需资料等。。。。。。。。电子级氟化铵在半导体和有关产业中拥有宽泛的利用,,,,,是现代科技出产中不成或缺的原资料之一。。。。。。。。在使用时必要把稳选取纯度较高的电子级产品,,,,,预防影响半导体器件的机能和靠得住性。。。。。。。。
包装: 200公斤压力容器,20吨TANK罐
联系人:朱义坤:130-6948-8833
孙 明:185-3018-7110